超純水設(shè)備在電子半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用是非常重要的,因?yàn)殡娮影雽?dǎo)體制造對(duì)水質(zhì)有極高的要求,需要非常純凈的水源來(lái)保證產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。我來(lái)說(shuō)說(shuō)超純水設(shè)備在電子半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用。
晶圓清洗:在半導(dǎo)體制造工藝中,硅片是核心材料之一。晶圓清洗需要使用高純水,以保證晶圓表面不受污染,從而保證電子元器件的質(zhì)量。
電鍍:在半導(dǎo)體制造中,需要進(jìn)行金屬電鍍等工藝。超純水的使用可防止雜質(zhì)和離子進(jìn)入電鍍液,保證電鍍質(zhì)量。
蝕刻和清潔:蝕刻和清潔工藝是半導(dǎo)體制造過(guò)程中所必需的,這些步驟需要使用高純水,以避免任何有害的殘留物。
高純度化學(xué)品的制造:超純水可作為制備這些化學(xué)品的原料。
光致抗蝕劑和薄膜的制造:用于稀釋和制備光致抗蝕劑和薄膜的材料。
半導(dǎo)體設(shè)備的清洗和冷卻:半導(dǎo)體設(shè)備需要定期清洗和冷卻,使用超純水可以防止任何雜質(zhì)進(jìn)入設(shè)備內(nèi)部。
電子元器件的組裝:在電子元器件的組裝過(guò)程中也使用了超純水,以保證組裝后的元器件的質(zhì)量和可靠性。
1. 半導(dǎo)體和晶圓材料的生產(chǎn)、加工和清洗步驟。
2. 生產(chǎn)高品質(zhì)顯像管和熒光粉。
3. 用純水作超純材料和超純化學(xué)試劑。
4.生產(chǎn)液晶顯示屏所需的純凈水清洗和純凈水分配。
5. 材料、設(shè)備、集成電器、印刷電路板在半導(dǎo)體工業(yè)中的應(yīng)用。
第三分編 水污染防治 第七章 一般規(guī)定 第二百六十一條 本分編適用于江河、湖泊、運(yùn)河、渠道、水庫(kù)等地表水體以及地下水體污染的防治。 第二百六十二條 本法所稱水污染,是指水體因某種物質(zhì)的介入,而導(dǎo)致其化學(xué)、物理、生物或者放射性等方面特性
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